尤尼吉可开发出几乎不透光的遮光薄膜

   尤尼吉可（UNITIKA）在“第四届高功能薄膜展”（2103年4月10～12日，东京有明国际会展中心）上宣布，该公司开发出了几乎不透光的薄膜，遮光层仅为5μm、光透射率为10^-5（图1）。尤尼吉可将面向相机快门、光圈、垫片和垫圈，光学设备内部的防反射胶带和遮光胶带以及遮光板等用途推广该产品。

       此次开发的遮光薄膜是在聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）和聚酰胺（PA）的薄膜中添加自主开发的遮光功能出色的材料制成的。目前市售的遮光薄膜都采用碳作为遮光材料，薄膜的厚度在30μm左右。采用新开发的薄膜可以将厚度降至1/6。而且，由于可以通过相同材质的薄膜形成多层构造，因此可使其表面具有特定的物理特性。