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薄膜原料及特性
名称:钇(Y)
三氧化二钇,(Y2O3)使用电子枪蒸镀,该材料性能随膜厚而变化,在500nm时折射率约为1.8。用作铝保护膜其极受欢迎,特别相对于800-12000nm区域高入射角而言,可用作眼镜保护膜,且24小时暴露于湿气中。一般为颗粒状和片状。
透光范围(nm) 折射率(N) 500nm蒸发温度(℃) 蒸发源 应用
250-8000 1.79 2300-2500 电子枪 防反膜、铝保护膜
名称:二氧化铈(CeO2)
使用高密度的钨舟皿(较早使用)蒸发,在200℃的基板上蒸着二氧化铈,得到一个约为2.2的折射率,在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化,在300℃基板500nm区域折射率为2.45,在波长短过400nm时有吸收,传统方法蒸发缺乏紧密性,用氧离子助镀可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜,一般为颗粒状,还可用一增透膜和滤光片等。
透光范围(nm) 折射率(N) 500nm蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 杂气排放量
400-16000 2.35 约2000 电子枪 防反膜 多
名称:氧化镁(MgO)
必须使用电子枪蒸发因该材料升华,坚硬耐久且有良好的紫外线(UV)穿透性,250nm时n=1.86,190nm时n=2.06,166nm时K值为0.1,n=2.65,可用作紫外线薄膜材料,MGO/MGF2膜堆从200nm-400nm区域透过性良好,但膜层被限制在60层以内(由于膜应力)500nm时环境基板上得到n=1.70。由于大气CO2的干扰,MGO暴露表面形成一模糊的浅蓝的散射表层,可成功使用传统的MHL折射率3层AR膜。